Mengintip untuk semikonduktor tecapeek cmp ensinger natural

Apa cincin penahan CMP atau cincin penahan CMP, cincin pemandu wafer dll, cincin penahan CMP dipasang di bagian bawah kepala gerinda untuk memperbaiki wafer dan menggerakkan wafer untuk berputar dengan kepala gerinda untuk mencapai efek penggilingan dan pemolesan pada Permukaan wafer. Ini adalah bagian penting dari peralatan CMP.pc bagian mesin CNC

Chemical Mechanical Polishing (CMP) adalah salah satu proses utama dalam manufaktur semikonduktor saat ini. Dalam beberapa tahun terakhir, karena ukuran wafer telah menjadi lebih besar, ukuran chip menjadi lebih kecil, dan kabel sirkuit menjadi lebih tipis. Untuk mendapatkan ketebalan film pelapisan yang ideal dan persyaratan pelapisan pada bidang yang ideal selama proses pembuatan, persyaratan presisi komponen periferal dalam proses CMP menjadi semakin ketat. Bagian mesin CNC plastik

Dalam proses CMP, cincin penahan CMP akan bersentuhan dengan berbagai bahan bubur, dan cincin penahan CMP harus tahan terhadap korosi dan keausan kimia. Ini juga perlu dapat menahan beban mekanis dan harus memiliki elastisitas, ketangguhan, dan kekuatan yang baik. Untuk meningkatkan hasil tanpa merusak wafer, cincin penahan CMP juga membutuhkan akurasi dimensi yang sangat tinggi.

Chemical Mechanical Polishing (CMP) adalah proses utama dalam manufaktur semikonduktor. Karena ukuran wafer telah menjadi lebih besar, ukuran chip menjadi lebih kecil, dan kabel sirkuit menjadi lebih tipis, persyaratan presisi komponen perifer dalam proses CMP, seperti cincin penahan CMP, menjadi semakin ketat. Polyamide Bagian mesin

Cincin penahan CMP

Fitur produk cincin penahan CMP yang diproduksi oleh perusahaan kami:

1. Bahan Baku: Kami menggunakan bahan plastik rekayasa berkualitas tinggi, termasuk PPS, mengintip, dan mengintip bahan yang dipadamkan dan tempered, untuk memastikan ketahanan korosi kimia yang tinggi dan ketahanan aus.

2. Proses Manufaktur: Kami mengikuti standar manajemen kerataan produk yang sangat tinggi, yang membantu mengurangi goresan benda asing yang tidak perlu disebabkan oleh cincin penahan CMP dan memberikan nilai TTV wafer yang lebih baik dibandingkan dengan produk produsen lain.

3. Proses Pembersihan: Kami menggunakan teknologi perawatan permukaan yang sangat baik dan metode pembersihan untuk mengurangi goresan benda asing yang tidak perlu disebabkan oleh cincin penahan CMP.

4. Keuntungan Harga: Mengandalkan kapasitas pasokan bahan baku yang kuat dan produksi skala besar, kami menawarkan harga yang lebih kompetitif dibandingkan dengan pesaing kami.

5. Penelitian & Pengembangan Bersama: Kami bekerja sama dengan pelanggan kami untuk meningkatkan produk kami dan memenuhi berbagai persyaratan proses mereka.

6. Refurbishment: Kami juga dapat memberi pelanggan layanan perbaikan dan regenerasi untuk produk bekas, yang dapat mengurangi biaya pengadaan untuk pelanggan dan lebih ramah lingkungan.

7. Kontrol Kualitas: Kami memiliki langkah -langkah kontrol kualitas yang ketat untuk memastikan konsistensi dan keandalan produk cincin penahan CMP kami. Setiap produk diperiksa dan diuji sebelum pengiriman untuk memastikan bahwa ia memenuhi standar tinggi kami.

8. Layanan Kustom: Tim kami berdedikasi untuk menyediakan layanan dan dukungan pelanggan yang luar biasa. Kami bekerja sama dengan pelanggan kami untuk memahami kebutuhan dan persyaratan mereka, dan kami berusaha untuk melebihi harapan mereka dengan segala cara yang memungkinkan.

Biasanya kami memilih dua plastik teknik khusus: PPS dan mengintip untuk memproses dan menghasilkan cincin penahan CMP.

Bahan PPS ditandai dengan ketahanan aus yang tinggi, ketahanan kimia yang baik dan resistensi pelarut, serta sifat gesekan yang baik, jenis bahan bersih-tinggi, tidak akan mencemari wafer, dibandingkan dengan cincin tetap CMP, biaya cincin tetap CMP PPS adalah lebih rendah, dan telah membentuk rantai industri yang lengkap, dengan keluarga menyoroti kinerja biaya.

Cincin penahan CMP mengintip memiliki koefisien gesekan yang lebih tinggi, dibandingkan dengan kinerja gesekan cincin penahan PPS CMP lebih baik, memiliki resistensi kimia yang lebih komprehensif dan stabil, kisaran resistensi suhu tinggi yang lebih luas, sehingga mengintip cincin penahan CMP dalam panjang- Lingkungan pemesinan berkekuatan tinggi lebih stabil, dalam waktu relatif, kondisi kerja yang sama, lebih lama, tetapi biayanya juga akan lebih tinggi dibandingkan dengan beberapa.