Apa bahan terbaik untuk digunakan untuk cincin penahan CMP

Apa bahan terbaik untuk digunakan untuk cincin penahan CMP?

Wafer silikon adalah wafer silikon yang digunakan dalam produksi sirkuit semikonduktor silikon, dan kemudian proses pemolesan mekanis dalam proses produksi wafer silikon dan merupakan tautan yang sangat penting, kami biasanya mendengar beberapa inci wafer, yang mewakili diameter yang lebih besar dari Wafer silikon, semakin baik kinerja wafer silikon ini, semakin kuat perwujudan kekuatan teknis, jadi dalam proses produksi wafer, laju hasil telah menjadi kondisi yang sangat penting, yang untuk persyaratan pemolesan permukaan wafer juga meningkat, CMP Proses pemolesan juga menjadi semakin canggih, jadi proses pemolesan untuk menggunakan cincin tetap CMP dewasa terbaik

Selama proses pemolesan wafer, cincin penahan CMP harus menahan wafer selama proses pemolesan. Selama proses pemolesan, bahan kimia yang berbeda ditambahkan, dan cairan ini dapat merusak komponen yang dipoles, sehingga membutuhkan cincin penahan CMP untuk dapat menahan beban mekanik tertentu, fleksibilitas yang baik dan ketahanan korosi, dan karakteristik lainnya.

Singkatnya, untuk memproduksi cincin penahan CMP, kami membutuhkan prosesor untuk memiliki akurasi pemrosesan yang sangat tinggi dan stabilitas dimensi untuk mengurangi goresan wafer nanti.

Biasanya kami memilih dua plastik teknik khusus: PPS dan mengintip untuk memproses dan menghasilkan cincin penahan CMP.

Bahan PPS ditandai dengan ketahanan aus yang tinggi, ketahanan kimia yang baik dan resistensi pelarut, serta sifat gesekan yang baik, jenis bahan bersih-tinggi, tidak akan mencemari wafer, dibandingkan dengan cincin tetap CMP, biaya cincin tetap CMP PPS adalah lebih rendah, dan telah membentuk rantai industri yang lengkap, dengan keluarga menyoroti kinerja biaya.

Cincin penahan CMP mengintip memiliki koefisien gesekan yang lebih tinggi, dibandingkan dengan kinerja gesekan cincin penahan PPS CMP lebih baik, memiliki resistensi kimia yang lebih komprehensif dan stabil, kisaran resistensi suhu tinggi yang lebih luas, sehingga mengintip cincin penahan CMP dalam panjang- Lingkungan pemesinan berkekuatan tinggi lebih stabil, dalam waktu relatif, kondisi kerja yang sama, lebih lama, tetapi biayanya juga akan lebih tinggi dibandingkan dengan beberapa.